今天以一顆 DC/DC 降壓電源芯片 LM2675 為例,盡量詳細講解下一顆芯片的內部設計原理和結構。
LM2675-5.0 的典型應用電路
打開 LM2675 的 DataSheet,首先看看框圖
這個圖包含了電源芯片的內部全部單元模塊,BUCK 結構我們已經很理解了,這個芯片的主要功能是實現對 MOS 管的驅動,并通過 FB 腳檢測輸出狀態來形成環路控制 PWM 驅動功率 MOS 管,實現穩壓或者恒流輸出。這是一個非同步模式電源,即續流器件為外部二極管,而不是內部 MOS 管。
下面咱們一起來分析各個功能是怎么實現的!
1基準電壓
類似于板級電路設計的基準電源,芯片內部基準電壓為芯片其他電路提供穩定的參考電壓。這個基準電壓要求高精度、穩定性好、溫漂小。芯片內部的參考電壓又被稱為帶隙基準電壓,因為這個電壓值和硅的帶隙電壓相近,因此被稱為帶隙基準。這個值為 1.2V 左右,如下圖的一種結構:
這里要講公式,PN 結的電流和電壓公式:
可以看出是指數關系,Is 是反向飽和漏電流(即 PN 結因為少子漂移造成的漏電流)。這個電流和 PN 結的面積成正比!即 Is->S。
如此就可以推導出 Vbe=VT*ln(Ic/Is) !
回到上圖,由運放分析 VX=VY,那么就是 I1*R1+Vbe1=Vbe2,這樣可得:I1=△Vbe/R1,而且因為 M3 和 M4 的柵極電壓相同,因此電流 I1=I2,所以推導出公式:I1=I2=VT*ln(N/R1) N 是 Q1 Q2 的 PN 結面積之比!
回到上圖,由運放分析 VX=VY,那么就是 I1*R1+Vbe1=Vbe2,這樣可得:I1=△Vbe/R1,而且因為 M3 和 M4 的柵極電壓相同,因此電流 I1=I2,所以推導出公式:I1=I2=VT*ln(N/R1) N 是 Q1 Q2 的 PN 結面積之比!
這樣我們最后得到基準 Vref=I2*R2+Vbe2,關鍵點:I1 是正溫度系數的,而 Vbe 是負溫度系數的,再通過 N 值調節一下,可是實現很好的溫度補償!得到穩定的基準電壓。N 一般業界按照 8 設計,要想實現零溫度系 數,根據公式推算出 Vref=Vbe2+17.2*VT,所以大概在 1.2V 左右的,目前在低壓領域可以實現小于 1V 的基準,而且除了溫度系數還有電源紋波抑制 PSRR 等問題,限于水平沒法深入了。最后的簡圖就是這樣,運放的設計當然也非常講究:
如圖溫度特性仿真:
2振蕩器 OSC 和 PWM
我們知道開關電源的基本原理是利用 PWM 方波來驅動功率 MOS 管,那么自然需要產生振蕩的模塊,原理很簡單,就是利用電容的充放電形成鋸齒波和比較器來生成占空比可調的方波。
最后詳細的電路設計圖是這樣的:
這里有個技術難點是在電流模式下的斜坡補償,針對的是占空比大于 50%時為了穩定斜坡,額外增加了補償斜坡,我也是粗淺了解,有興趣同學可詳細學習。
3誤差放大器
誤差放大器的作用是為了保證輸出恒流或者恒壓,對反饋電壓進行采樣處理。從而來調節驅動 MOS 管的 PWM,如簡圖:
4驅動電路
最后的驅動部分結構很簡單,就是很大面積的 MOS 管,電流能力強。
5其他模塊電路
這里的其他模塊電路是為了保證芯片能夠正常和可靠的工作,雖然不是原理的核心,卻實實在在的在芯片的設計中占據重要位置。
具體說來有幾種功能:
1、啟動模塊
啟動模塊的作用自然是來啟動芯片工作的,因為上電瞬間有可能所有晶體管電流為 0 并維持不變,這樣沒法工作。啟動電路的作用就是相當于“點個火”,然后再關閉。如圖:
上電瞬間,S3 自然是打開的,然后 S2 打開可以打開 M4 Q1 等,就打開了 M1 M2,右邊恒流源電路正常工作,S1 也打開了,就把 S2 給關閉了,完成啟動。如果沒有 S1 S2 S3,瞬間所有晶體管電流為 0。
2、過壓保護模塊 OVP
很好理解,輸入電壓太高時,通過開關管來關斷輸出,避免損壞,通過比較器可以設置一個保護點。
3、過溫保護模塊 OTP
溫度保護是為了防止芯片異常高溫損壞,原理比較簡單,利用晶體管的溫度特性然后通過比較器設置保護點來關斷輸出。
4、過流保護模塊 OCP
在譬如輸出短路的情況下,通過檢測輸出電流來反饋控制輸出管的狀態,可以關斷或者限流。如圖的電流采樣,利用晶體管的電流和面積成正比來采樣,一般采樣管 Q2 的面積會是輸出管面積的千分之一,然后通過電壓比較器來控制 MOS 管的驅動。
還有一些其他輔助模塊設計。
6恒流源和電流鏡
在 IC 內部,如何來設置每一個晶體管的工作狀態,就是通過偏置電流,恒流源電路可以說是所有電路的基石,帶隙基準也是因此產生的,然后通過電流鏡來為每一個功能模塊提供電流,電流鏡就是通過晶體管的面積來設置需要的電流大小,類似鏡像。
總 結
以上大概就是一顆 DC/DC 電源芯片 LM2675 的內部全部結構,當然,這只是原理上的基本架構,具體設計時還要考慮非常多的參數特性,需要作大量的分析和仿真,而且必須要對半導體工藝參數有很深的理解,因為制造工藝決定了晶體管的很多參數和性能,一不小心出來的芯片就有缺陷甚至根本沒法應用。整個芯片設計也是一個比較復雜的系統工程,要求很好的理論知識和實踐經驗。
壹芯微科技專注于“二,三極管、MOS(場效應管)、橋堆”研發、生產與銷售,20年行業經驗,擁有先進全自動化雙軌封裝生產線、高速檢測設備等,研發技術、芯片源自臺灣,專業生產流程管理及工程團隊,保障所生產每一批物料質量穩定和更長久的使用壽命,實現高度自動化生產,大幅降低人工成本,促進更好的性價比優勢!選擇壹芯微,還可為客戶提供參數選型替代,送樣測試,技術支持,售后服務等,如需了解更多詳情或最新報價,歡迎咨詢官網在線客服!
手機號/微信:13534146615
QQ:2881579535
工廠地址:安徽省六安市金寨產業園區
深圳辦事處地址:深圳市福田區寶華大廈A1428
中山辦事處地址:中山市古鎮長安燈飾配件城C棟11卡
杭州辦事處:杭州市西湖區文三西路118號杭州電子商務大廈6層B座
電話:13534146615
企業QQ:2881579535
深圳市壹芯微科技有限公司 版權所有 | 備案號:粵ICP備2020121154號